合成石英玻璃牌号ZS，即以前所称的JGS1，一般采用化学气相沉积法（CVD），将气态高纯四氯化硅在氢氧火焰中水解和熔融制成，大尺寸坯片还需高温槽沉获得。其特点是紫外至近红外波段透过率高，200 nm透过率高达90%以上。且产品无荧光，无气泡，无条纹，应力可达2 nm/cm，是普通光学材料所不可代替的。因为产品含有1100 ppm左右的羟基，导致其在红外波段（特别是2730 nm）有较强的吸收。

熔融石英玻璃，是用氢氧火焰熔融高纯石英砂制成的透明石英砣，经热整形得到规格更大、均匀性更好的石英锭和石英板，再经精密退火获得更好应力（≤3nm/cm）。其特点是热膨胀系数低（5.5×10-7）、热稳定好、物理机械性能强，主要用于恶劣环境下的大中型反射镜。

红外石英玻璃牌号HS，即以前所称的JGS3，一般由电熔或等离子体（PCVD）工艺制造。其最大优点是羟基含量极低（≤1ppm），在2730nm波段无吸收，弥补了合成石英玻璃的不足。等离子体工艺制得的高纯石英玻璃可在全光谱波段（190nm～3500nm）使用。

石英玻璃虽然是最佳光学材料，但在某个波段仍难以胜任极高要求，所以根据客户要求，在石英玻璃基片上进行镀膜阻止或增透，来满足设计要求。

氟化钙晶体只是氟化物晶体的一种，其优点是应用波段宽，可在155-7000nm波段使用，抗激光损伤阈值高、应力双折射低、折射率高。其缺陷就是硬度较软，不抗温。规格从φ5mm-φ150mm，可用于激光（特别是深紫外准分子激光光刻）、红外、紫外光学、高能探测领域，是制作光学系统中的光学棱镜、透镜和窗口等光学元件的最好材料。

高纯石英玻璃采用CVD或PCVD法制得。该产品具有纯度高、无气泡、无条纹的特性，且无荧光、物理性能优越（见表），应力可达2nm/cm以内。根据生产工艺的不同羟基含量有所差异，可满足不同客户需求。

采用火焰熔融法，生产透明石英圆砣。可加工成透明石英圆片、方片、法兰等，用于视窗及半导体石英配件等材料。也可以经过再次热整形（槽沉）得到特殊规格的透明石英锭、石英板；同时还可以通过拉制工艺制成透明石英管、石英棒。用于半导体配件材料、光导纤维制造辅料。

低羟基石英玻璃采用等离子火焰法工艺制造，可生产圆砣后经过再加工成石英片、石英法兰、石英管、石英棒等。优点是羟基含量低（≤8ppm），被广泛用于半导体配件材料。

采用旋转工艺，生产特殊壁厚的乳白石英管材，可作为焙烧炉管及隔热用材料；采用气炼工艺生产不透明石英玻璃，可加工成乳白石英板。有着良好的隔热和耐温性能，主要应用于半导体加工中的隔热配件。

采用氢氧焰热处理方法，对石英片、石英法兰及石英管根据客户需求进行整形加工，制作成透明石英、乳白石英及异型石英玻璃制品，包括石英舟、扩散管、半导体清洗槽、石英器具等，被广泛用于半导体、光伏、光纤配件材料。